光刻技術(shù)實(shí)際上是一種精密表面加工技術(shù)，它借助于一定波長(zhǎng)的激光光源以及選擇性的化學(xué)腐蝕和刻蝕技術(shù)把設(shè)計(jì)的微納圖案轉(zhuǎn)移到硅基板上。但是隨著集成電路功能和密度的提升傳統(tǒng)的光刻技術(shù)已經(jīng)難以滿足當(dāng)前對(duì)線寬越來(lái)越小的需求。但是打破衍射極限的大型光刻設(shè)備又極其昂貴。為了擺脫光學(xué)衍射極限和克服高成本的限制，一種操作簡(jiǎn)單，成本低廉的納米壓印技術(shù)產(chǎn)生了。納米壓印的技術(shù)核心是充分利用機(jī)械能將剛性模板上的圖案轉(zhuǎn)到抗蝕劑上，之后再借助溶脫、剝離、刻蝕等將圖案轉(zhuǎn)移到基板上。到目前為止壓印技術(shù)已經(jīng)發(fā)展出來(lái)多種類型，典型的包括熱塑壓印技術(shù)、紫外固化壓印、微接觸納米壓印、激光輔助納米壓印和滾軸式納米壓印技術(shù)等。

 

　　該款納米壓印機(jī)一種非常靈活的儀器。它可提供加熱型納米壓印、UV紫外納米壓印以及真空納米壓印。模塊化系統(tǒng)可根據(jù)特定需求輕松配置，體積小，容易存放，大可處理210mm（8英寸）圓形的任何尺寸印章和基材。該系統(tǒng)是手動(dòng)裝卸印章和模板，但所有處理器都是全自動(dòng)的，軟件用戶可以*控制壓印過(guò)程。

　　特色：

　　1、體積小巧，容易存放，桌面型；

　　2、輕微復(fù)制微米和納米級(jí)結(jié)構(gòu)；

　　3、熱壓印溫度高達(dá)200℃；

　　4、可選的高溫模塊，適用于250℃；

　　5、可選的UV模塊，適用于405nm曝光；

　　6、真空納米壓印（腔室可抽真空至0.1mbar）；

　　7、納米壓印壓力高達(dá)11bar；

　　8、溫度分布均勻、讀數(shù)準(zhǔn)確；

　　9、筆記本電腦全自動(dòng)控制，工藝配方編輯簡(jiǎn)單，*靈活控制，自動(dòng)記錄數(shù)據(jù)。